
Ilang linggo lamang bago matapos ang kasalukuyang administrasyon ng US, tinatalakay na umano ng mga awtoridad ang pagpapalawak ng blacklist ng mga kumpanyang naka-link sa militar ng China kasama ang mga malalaking tech giants, Alibaba at Tencent.
Ang mga talakayan na isinasaalang-alang ang pagsasama ay isinasagawa sa loob ng ilang linggo sa mga opisyal ng Departamento ng Estado at Depensa, ayon sa isang ulat pagbanggit ng hindi pinangalanang mga mapagkukunan.
Ang orihinal na blacklist ay inilabas noong Nobyembre kasama ang 31 kumpanya kabilang ang mga tulad ng surveillance firm na Hikvision at semiconductor maker SMIC.
Kamakailan lamang, ang pagbabawal sa pamumuhunan ng militar ng China ay kasama rin ang isang hindi pangkaraniwang kaso na kinasasangkutan Tsina Mobile, China Telecom at China Unicom Hong Kong. Pagkatapos ng paunang desisyon na i-delist ang tatlong Chinese telecommunication firm, binaligtad ng New York Stock Exchange (NYSE) ang tawag nitong Lunes bago gumawa ng isa pang pagbaligtad noong Martes.
Sinabi ng mga mapagkukunan na mayroong kalabuan kung ang mga nabanggit na kumpanya ay napapailalim o hindi sa mga pagbabawal na naging dahilan upang tawagan ni US Treasury Secretary Steven Mnuchin ang presidente ng NYSE na si Stacey Cunningham upang sabihin sa kanya na hindi siya sang-ayon sa desisyon na baligtarin ang pag-delist.
Ang mga pagbabawal sa pamumuhunan ay bahagi ng isang serye ng mga hakbang na ginawa ng administrasyong Trump upang himukin ang decoupling sa pagitan ng kapital ng US at ng ekonomiya ng China.
Bilang karagdagan sa mga kumpanyang nauugnay sa militar, sinisikap din ng Washington na higpitan ang mga kumpanyang Tsino na hindi pumasa sa mga pamantayan sa pag-audit ng US, na pinipilit ang mga ito na may mga prospect na mag-delist sa mga American bourses.
Kasunod ito ng serye ng mga iskandalo sa accounting sa headline sa mga kumpanyang Tsino na nakalista sa US gaya ng $300 milyon na inflation ng mga numero ng benta sa Luckin Kape o 83 tonelada ng collateralized na pekeng gold bar sa Kingold.